Shadow mask, and, The method of fabricating vertically tapered structure by using the shadow mask,申请号KR20040063709-传众专利搜索

发明名称	Shadow mask, and, The method of fabricating vertically tapered structure by using the shadow mask
摘要
申请公布号	KR100664307(B1)	申请公布日期	2007.01.04
申请号	KR20040063709	申请日期	2004.08.13
申请人		发明人
分类号	G02B6/13;G02B6/12;G02B6/136	主分类号	G02B6/13
代理机构		代理人
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