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经营范围
发明名称
Plasma processing apparatus
摘要
申请公布号
KR100663351(B1)
申请公布日期
2007.01.02
申请号
KR20040092685
申请日期
2004.11.12
申请人
发明人
分类号
H01L21/02
主分类号
H01L21/02
代理机构
代理人
主权项
地址
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