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"REMOVEDORES ALCALINOS DE RESìDUO DE CINZA/GRAVAçãO PóS-PLASMA E COMPOSIçõES DE DESCASCAMENTO DE FOTORRESISTES CONTENDO INIBIDORES DE CORROSãO DE HALETO DE METAL". A presente invenção refere-se a composições alcalinas úteis na indústria de microeletrónicos para descascamento ou limpeza de substratos de pastilha semicondutora através de remoção de resíduos de fotorresistes e outros contaminantes indesejáveis. As composições contêm (a) uma ou mais bases e (b) um ou mais haletos de metal de inibição de corrosão de metal da fórmula: W~ z~ MX~ y~ onde M é um metal selecionado do grupo Si, Ge, Sn, Pt, P, B, Au, Ir, Os, Cr, Ti, Zr, Rh, Ru, e Sb; X é um haleto selecionado de F, CI, Br e I; W é selecionado de H, a um metal de álcali ou alcalino-terroso, e uma porção de base de hidróxido livre de íon de metal; y é um numeral de 4 a 6 dependendo do haleto de metal; e z é um numeral de 1, 2 ou 3. |
