| 发明名称 |
Intermediate layer composition for multilayer resist process, pattern-forming process using the same, and laminate |
| 摘要 |
An intermediate layer composition having a silicon-containing polymer(A) having a specific structure and a pattern-forming process using the same.
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| 申请公布号 |
US7157205(B2) |
申请公布日期 |
2007.01.02 |
| 申请号 |
US20040883831 |
申请日期 |
2004.07.06 |
| 申请人 |
FUJI PHOTO FILM CO., LTD. |
发明人 |
ADEGAWA YUTAKA |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/11;C08G77/16;C09D183/04;C09D183/14;G03C1/76;G03F7/075;G03F7/26;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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