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发明名称
METHOD FOR MANUFACTURING ISOLATION LAYER IN SEMICONDUCTOR DEVICE
摘要
申请公布号
KR100663609(B1)
申请公布日期
2007.01.02
申请号
KR20050034738
申请日期
2005.04.26
申请人
发明人
分类号
H01L21/76
主分类号
H01L21/76
代理机构
代理人
主权项
地址
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