发明名称 半导体积体电路装置
摘要 本发明之半导体积体电路装置10系以钝化层14被覆切成矩形之半导体基板11上的元件形成区域12或金属布线层13而形成,其构成系在其四隅具有钝化层14形成于半导体基板11正上方之角隅非布线区部CC1。根据该种构成,可抑制因热应力造成钝化层上产生裂缝。
申请公布号 TW200701423 申请公布日期 2007.01.01
申请号 TW095121727 申请日期 2006.06.16
申请人 罗姆股份有限公司 发明人 冈崎 充;高桥 直树;清水 彰;尾原 洋一
分类号 H01L23/58(2006.01) 主分类号 H01L23/58(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本