| 摘要 |
本发明提供一种像素电极与其形成方法、及具备该像素电极之光电装置与电子机器；其系可对像素电极实施微细之图案化，且可防止因气体或水分之影响所导致之特性变化及穿透率下降者。本发明包含以下步骤：于基板P上形成岸堤B4者；以液滴喷出法于藉由岸堤B4予以划分之区域配置含有透明导电性微粒子之第1功能液者；乾燥处理前述第1功能液而形成第1层膜19c者；以液滴喷出法于前述第1层膜19c上配置含有矽化物之第2功能液者；统括烧结前述第1层膜19c及第2功能液，形成包含前述第1层膜19c及填埋该第1层膜19c的空孔之矽氧化物之透明导电层19a，并于该透明导电层上形成矽氧化物层19b，以形成由该透明导电层19a与矽氧化物层19b叠层而成之像素电极19者。 |
