| 主权项 |
1.一种曝光机之基板支撑结构,系配合一基板,其包 括: 一具有复数个支撑垫之平台,该等支撑垫系用以支 撑或承接该配合之基板,以使该基板与该平台保待 一间距; 一具有一驱动杆与复数个基板支撑顶针之基座,其 中该驱动杆系连结该平台,并驱动该平台之升降, 且该等基板支撑顶针系用以支撑或承接该基板;以 及 至少二个基板支撑档板,系设置于该基座上任二个 该基板支撑顶针之间;该等基板支撑档板设置之距 离,系小于该基板之最大边长;且该等基板支撑档 板高度系小于该等基板支撑顶针之高度。 2.如申请专利范围第1项所述之基板支撑结构,其中 该等基板支撑档板之一厚度范围在1mm~5mm之间。 3.如申请专利范围第1项所述之基板支撑结构,其中 该等基板支撑档板与该基板接触之一顶面系涂覆 或贴附有一防静电材料层。 4.如申请专利范围第3项所述之基板支撑结构,其中 该防静电材料层为一导电胶带。 5.如申请专利范围第1项所述之基板支撑结构,其中 该等基板支撑档板系更连结有一接地元件。 6.如申请专利范围第1项所述之基板支撑结构,其中 当该等基板支撑顶针承接该基板时,该等基板支撑 档板系位于或靠近于该基板之边缘。 7.如申请专利范围第1项所述之基板支撑结构,其中 该等基板支撑顶针系设置于该等曝光支撑垫之相 对位置。 8.如申请专利范围第1项所述之基板支撑结构,其中 该等基板支撑顶针与该等曝光支撑垫系一对一对 应设置。 9.如申请专利范围第1项所述之基板支撑结构,其中 该等曝光支撑垫系套接于该等基板支撑顶针上。 10.如申请专利范围第1项所述之基板支撑结构,其 中该等基板支撑档板系成对平行对向设置。 11.如申请专利范围第10项所述之基板支撑结构,其 中于该等成对平行基板支撑档板之间距,系大于该 平台之宽度。 12.如申请专利范围第1项所述之基板支撑结构,其 中该等基板支撑档板设置之距离,系小于该基板之 任一边长。 13.如申请专利范围第1项所述之基板支撑结构,其 中该等基板支撑档板之高度与该等基板支撑顶针 之高度相差2mm-5mm。 14.如申请专利范围第1项所述之基板支撑结构,其 中该等基板支撑档板之宽度系小于所配合之一机 械手臂之宽度。 15.如申请专利范围第1项所述之基板支撑结构,其 中该基座上更包括至少二个平台支撑板,支撑该平 台。 图式简单说明: 图1系习用边缘曝光机台示意图。 图2(a)~图2(f)系习用边缘曝光机台之作动示意图。 图3(a)~图3(f)系本创作一较佳实施例,具有基板支撑 结构之边缘曝光机台之作动示意图。 |
