| 主权项 |
1.一种微影投射装置,包含: -- 一辐射系统,其用于提供一辐射投射束; -- 一支撑结构,其用于支撑图案化构件,该图案化 构件具有依据一所需要的图案将该投射束图案化; -- 一基材台,其用于固持一基材; -- 一投射系统,其用于将该经图案化的束投射在该 基材的一目标部上; 其中该辐射系统、该支撑结构、该基材台及该投 射系统中之至少一者的至少一部份系容纳在一密 封室中,且设置一伸缩节以在该密封的室与另一室 或一泵之间提供一闭合的通道,该通道具有一纵轴 线;其特征为该伸缩节包含: 一第一段,其具有绕该纵轴线呈螺旋形延伸之复数 个平顺的褶波部,使得该第一段的相对端点可彼此 相对旋转;及 一第二段,其适可改变长度以补偿该第一段的长度 变化。 2.如申请专利范围第1项之装置,其中该第二段系具 有复数个平顺的褶波部以相反于该第一段之平顺 的褶波部之方向绕该纵轴线呈螺旋形延伸。 3.如申请专利范围第2项之装置,其中该第二段大致 为该第一段的一镜像。 4.如申请专利范围第1项之装置,其中该第二段系具 有与该纵线呈垂直延伸之复数个平顺的褶波部。 5.如申请专利范围第1、2、3或4项之装置,进一步包 含一第三段,该第三段具有与该纵轴线呈垂直延伸 之复数个平顺的褶波部。 6.如申请专利范围第1、2、3或4项之装置,其中该等 平顺的褶波部之峰部与谷部为平行。 7.如申请专利范围第1、2、3或4项之装置,其中该等 平顺的褶波部之峰部与谷部相对于该伸缩节的纵 轴线呈相同的角度。 8.如申请专利范围第1、2、3或4项之装置,其中相较 于该伸缩节材料的厚度,该等平顺的褶波部具有大 的曲率半径。 9.如申请专利范围第1、2、3或4项之装置,其中该等 平顺的褶波部为正弦曲线状。 10.如申请专利范围第1、2、3或4项之装置,其中该 第一段具有介于四个到三十个平顺的褶波部。 11.如申请专利范围第1、2、3或4项之装置,其中该 第一段之平顺的褶波部系绕该纵轴线延伸四分之 一圈到一圈。 12.如申请专利范围第1、2、3或4项之装置,其中该 第一段及/或该第二段具有垂直于该轴线且概呈圆 形之一剖面。 13.如申请专利范围第1、2、3或4项之装置,其中该 支撑结构包含一遮罩台藉以固持一遮罩。 14.如申请专利范围第1、2、3或4项之装置,其中该 辐射系统包含一辐射源。 15.一种制造一积体电路之方法,包含以下步骤: -- 提供一基材,该基材至少部份地受到一层辐射敏 感性材料所覆盖; -- 利用一辐射系统提供一辐射投射束; -- 利用图案化构件对于该投射束的剖面赋予一图 案; -- 将该经图案化的辐射束投射在该层辐射敏感性 材料的一目标部上, 其特征为以下步骤: 提供一伸缩节,以将用于包围该辐射系统、该支撑 结构、该基材台及该投射系统其中一者的至少一 部份之一密封的隔室与另一隔室或一泵之间相导 通,该伸缩节系具有一包含平顺的褶波部之第一段 、及一适于容纳该第一段的长度变化之第二段。 图式简单说明: 图1描述根据本发明的一实施例之一微影投射装置 ; 图2至6为可使用于本发明实施例中之伸缩节的立 体图。 |
