| 主权项 |
1.一种浮法玻璃制造设备用之浮动室,其底部外壳 中容纳多个相邻之底唇,底唇上方形成一种液区以 容纳流体锡,该液区在液区输入端及液区输出端之 间延伸,其特征为:底唇(11)之至少一部份在其面向 液区之此侧上至少以区段方式覆盖一由钨或钨合 金所构成之覆层,该覆层区由液区输入端开始而在 玻璃之输送方向中延伸。 2.如申请专利范围第1项之浮动室,其中覆层区至少 在液区输入端至5公尺之间之一部份区域中在玻璃 之输送方向中延伸。 3.如申请专利范围第1项之浮动室,其中覆层配置在 液区中,液区中之锡温度可达1250℃。 4.如申请专利范围第3项之浮动室,其中覆层配置在 液区中,液区中之锡温度在1150℃及1250℃之范围中 。 5.如申请专利范围第1至4项中任一项之浮动室,其 中该覆层在承载层之中间层下方覆盖该底唇(11)。 6.如申请专利范围第1项之浮动室,其中该覆层可藉 由一或多个具有由钨或钨合金所构成之外层的金 属片(12)来形成,或可藉由一或多个以钨或钨合金 所制成的金属片(12)来形成。 7.如申请专利范围第6项之浮动室,其中金属片(12) 之厚度介于0.5mm及3mm之间。 8.如申请专利范围第6或7项之浮动室,其中金属片( 12)具有表面积是在1.5m2及2.5m2之范围中之形状。 9.如申请专利范围第1或3项之浮动室,其中该覆层 在涂层区内部中覆盖相邻之各底唇(11)之间所形成 之接缝(11.1)。 10.如申请专利范围第6项之浮动室,其中该覆层之 钨材料所具有之最大之O2含量20ppm。 11.如申请专利范围第6项之浮动室,其中该覆层之 钨由烧结材料所形成,其藉由氧化钨之还原而制成 12.一种以浮法制程来制造玻璃所用之方法,其中使 用如申请专利范围第1至11项中任一项之浮动室,其 特征为:使至少含有5wt.%之B2O3之硼矽酸盐玻璃熔化 。 13.如申请专利范围第12项之方法,其中硼矽酸盐玻 璃由下述成份构成: 55至65 Wt.% SiO2 15至20 Wt.% Al2O3 5至12 Wt.% B2O3 0至5 Wt.% BaO 3至9 Wt.% CaO 1至5 Wt.% MgO 0至5 Wt.% SrO。 图式简单说明: 第1图 浮动室之图解及俯视图。 第2图 系第1图之垂直切面图。 第3图 系第2图之区域之放大图。 |
