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经营范围
发明名称
半导体单晶制造装置
摘要
此半导体单晶制造装置系具有:坩锅;和加热器;和坩锅驱动手段;和腔室,收容前述坩锅及加热器;和氢混合气体供给装置,将含有氢原子之含氢气体及非活性气体所混合而成之氢混合气体,供给至前述腔室内:并且,前述氢混合气体供给装置具备:含氢气体供给机:和非活性气体供给机;和含氢气体流量控制器;和非活性气机流量控制器;和气体混合手段,将含氢气体与非活性气体加以均匀混合而产生氢混合气体。
申请公布号
TW200700594
申请公布日期
2007.01.01
申请号
TW094144547
申请日期
2005.12.15
申请人
上睦可股份有限公司
发明人
杉村涉;宝来正隆;小野敏昭
分类号
C30B29/06(2006.01);C30B15/00(2006.01)
主分类号
C30B29/06(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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