| 发明名称 |
移除导电材料之化合物及使用该化合物制造阵列基板之方法 |
| 摘要 |
一种移除导电材料之化合物及使用此化合物制造阵列基板之方法，其中化合物包含3wt％至15wt％的硝酸、40wt％至70wt％的磷酸、5wt％至35wt％的醋酸、0.05wt％至5wt％的氯化合物、0.01wt％至5wt％的氯稳定剂、0.01wt％至5wt％的pH稳定剂及其余质量为水。 |
| 申请公布号 |
TW200701356 |
申请公布日期 |
2007.01.01 |
| 申请号 |
TW095121286 |
申请日期 |
2006.06.14 |
| 申请人 |
LG飞利浦股份有限公司;东进世美肯股份有限公司 |
发明人 |
宋桂灿;金锺一;李垌默;曹三永;申贤哲;金南緖 |
| 分类号 |
H01L21/302(2006.01);G02F1/13(2006.01);C03C15/00(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/302(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
许世正 |
| 主权项 |
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| 地址 |
韩国 |
