发明名称 摄影模组
摘要 本发明是一种摄影模组,改变外壳材质或者对外壳进行化学处理,或者用陶瓷代替电路基板,保护摄影感测器不受内部电噪音或外界环境因素影响。上述本发明是一种摄影模组,其特征是由外壳、陶瓷外壳、滤光器、电路基板组成;其中,外壳与透镜相连,底部为开放式,顶部设有一个开口;陶瓷外壳与上述外壳底部相连,内部包括摄影用感测器,顶部为开放式;而滤光器的作用是覆盖上述陶瓷外壳的顶部,阻断红外线的入射;电路基板与上述陶瓷外壳底部相连,还包括可以驱动上述摄影用感测器的晶片。
申请公布号 TWI269925 申请公布日期 2007.01.01
申请号 TW093124593 申请日期 2004.08.17
申请人 艾 斯有限公司 发明人 金圣旼;金庆埴;崔善
分类号 G03B17/22(2006.01);H04N5/225(2006.01) 主分类号 G03B17/22(2006.01)
代理机构 代理人 黄志扬 台北市中山区长安东路1段23号10楼之1
主权项 1.一种摄影模组,其特征是由外壳、陶瓷外壳、滤 光器、电路基板组成; 外壳与透镜相连,底部呈开放式,顶部中央带有一 个开口; 陶瓷外壳与上述外壳底部相连,内部包括摄影用传 感器,顶部呈开放式; 滤光器覆盖上述陶瓷外壳顶部,阻断红外线的入射 ; 电路基板与上述陶瓷外壳底部相连,包括驱动上述 摄影用感测器的晶片。 2.如申请专利范围第1项所述之摄影模组,其特征是 上述外壳由金属或金属合金组成。 3.如申请专利范围第2项所述之摄影模组,其特征是 上述金属为铝、镁、钼中的一种。 4.如申请专利范围第1或2项所述之摄影模组,其特 征是上述外壳内表面采用阳极氧化法进行表面处 理。 5.如申请专利范围第4项所述之摄影模组,其特征是 在外壳内表面形成压花后,根据上述阳极氧化法进 行表面处理。 6.如申请专利范围第1或2项所述之摄影模组,其特 征是上述外壳内表面镀铬。 7.如申请专利范围第6项所述之摄影模组,其特征是 在外壳内表面形成压花后,进行上述镀铬。 8.如申请专利范围第1项所述之摄影模组,其特征是 上述陶瓷外壳内部设有引线,从而电连接上述摄影 用感测器和电路基板。 9.如申请专利范围第1项所述之摄影模组,其特征是 上述电路基板包括陶瓷基板和软印刷电路板、数 位信号处理器晶片以及无源元件,而上述陶瓷基板 与上述陶瓷外壳底部相连。 图式简单说明: 图1是有关本发明实施例一的摄影模组截面图。 图2是有关上述实施例一的摄影模组分解图。 图3是有关本发明实施例二的摄影模组截面图。 图4是有关上述实施例二的摄影模组分解图。 图5是有关本发明阳极氧化膜形成的理解图。
地址 韩国