| 主权项 |
1.一种监视一光微影系统之一光积分器的方法,其 中该光微影系统包括一用以照明一感光层(12)之不 同区域的光源(10)及一用以量测受照明区域之实际 曝光剂量的光积分器(18),该方法包含接连照明该 感光层(12)之不同区域的步骤,其中在每一照明步 骤中,藉由该光积分器(18)量测实际曝光剂量,控制 实际曝光时间以使曝光该感光层(12)之一区域的该 实际曝光剂量符合一所要曝光剂量,且将该实际曝 光时间馈送至一监视系统(24)以在照明该等区域时 对该光积分器(18)进行线上监视。 2.如请求项1之方法,其中,对每一照明步骤,将该所 要曝光时间自该光微影系统馈送至该监视系统(24) 。 3.如请求项2之方法,其中藉由将照明该感光层(12) 之一区域的该实际曝光时间除以对应的所要曝光 时间而形成一实际比率(Zn)。 4.如请求项3之方法,其中藉由将该实际比率(Zn)除 以储存于该监视系统(24)的一记忆体中之一先前照 明步骤的一对应前一比率(Z(n-1))而形成一商(A)。 5.如请求项4之方法,其中将该商(A)与一上临限値(B+ )比较,若该商(A)超过该上临限値(B+),则指示一错误 。 6.如请求项5之方法,其中该上临限値(B+)为1.03。 7.如请求项4之方法,其中将该商(A)与一下临限値(B- )比较,若该商(A)低于该下临限値(B-),则指示一错误 。 8.如请求项7之方法,其中该下临限値(B-)为0.97。 9.如请求项4之方法,其中将该商(A)与一上临限値(B+ )及一下临限値(B-)比较,若该商(A)超过该上临限値( B+),或若该商(A)低于该下临限値(B-),则指示一错误 。 10.如请求项9之方法,其中该上临限値(B+)为1.03,且 其中该下临限値(B-)为0.97。 11.如请求项9之方法,其中发送一电子邮件以指示 该错误。 12.如请求项9之方法,其中随后将该实际比率(Zn)作 为一前一比率(Z(n-1))储存于该记忆体中,且重复该 过程。 13.如请求项1之方法,其中当藉由该光积分器(18)所 量测之该实际曝光剂量符合该所要曝光剂量时,将 一安置在该光微影系统之光路内的挡板(20)关闭。 14.如请求项1之方法,其中藉由一SECS/GEM介面将该等 曝光时间自该光微影系统馈送至该监视系统(24)。 15.如请求项1之方法,其中该感光层(12)为一矽基板( 14)上之一光阻层。 图式简单说明: 图1为用于将遮罩图案成像于感光层上的光微影系 统之示意图; 图2为说明根据本发明之原理监视光积分器之方法 的示意图。 |
