| 摘要 |
Способ образования трехмерной микроструктуры на плоской поверхности основы, включающий нанесение первого плоского и однородного слоя (2) силикона на указанную поверхность основы (1) и нанесение на первый слой силикона второго трехмерно микроструктурированного слоя (3) силикона, причем указанный первый слой и второй слой силикона становятся цельносвязанными, чтобы создать таким путем общую трехмерную микроструктуру, обеспечивающую равномерно распределенные по поверхности основы антиадгезивные свойства, так что любая гибкая поверхность подложки, в частности поверхность адгезива, нанесенного на указанные силиконовые слои, будет микроструктурирована путем инверсного воспроизведения трехмерной микроструктуры, образованной этими двумя силиконовыми слоями, причем указанные силиконовые слои зафиксированы отверждением путем нагрева или под действием ультрафиолета или облучения электронами, или их комбинацией; его применение и пленки, в частности самоклеющиеся пленки, такие как пленки, микроструктурированные указанным способом. |
