| 发明名称 |
Trench-MIS-Bauteil mit einem implantierten Drain-Drift-Bereich und einem dicken Bodenoxid und Verfahren zur Herstellung desselben |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
DE10393853(T5) |
申请公布日期 |
2006.12.28 |
| 申请号 |
DE20031093853T |
申请日期 |
2003.12.15 |
| 申请人 |
SILICONIX INC. |
发明人 |
DARWISH, MOHAMED N.;TERRILL, KYLE W.;QI, JAINHAI |
| 分类号 |
H01L29/78;H01L21/225;H01L21/28;H01L21/336;H01L21/8234;H01L29/06;H01L29/08;H01L29/10;H01L29/423 |
主分类号 |
H01L29/78 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
