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Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Behandlung eines Prozessgutes, wobei das Prozessgut mit, vorzugsweise nicht-thermischem, großflächigem Plasma, vorzugsweise bei mindestens Atmosphärendruck, in Kontakt gebracht, das Plasma in unmittelbarer Nähe zu dem Prozessgut erzeugt oder in dem Prozessgut oder in unmittelbarer Umgebung eine Gasentladung, insbesondere eine Koronaentladung, vorzugsweise bei mindestens Atmosphärendruck, erzeugt wird. Um die Behandlung des Prozessgutes mit Plasma zu verbessern und die Effektivität zu steigern, werden zur Erzeugung des Plasmas bzw. Gasentladung zwischen Elektroden (43, 44) Hochspannungsimpulse (66, 67) mit einer Dauer (62) von weniger als 10 mus erzeugt.
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