发明名称 |
Technik zur Reduzierung der Siliziumungleichförmigkeiten durch Anpassen eines vertikalen Dotierprofiles |
摘要 |
Durch Modifizieren der vertikalen Dotierstoffkonzentration in tiefen Drain- und Sourcegebieten kann das Reaktionsverhalten während der Ausbildung von Metallsilizidgebieten gesteuert werden. Zu diesem Zweck wird ein erhöhte Dotierstoffkonzentration um eine Solltiefe herum für die Metallsilizidgrenzfläche gebildet, wodurch die Reaktionsgeschwindigkeiten reduziert und damit die Gleichförmigkeit der resultierenden Metallsilizidgrenzfläche verbessert wird.
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申请公布号 |
DE102005024911(A1) |
申请公布日期 |
2006.12.28 |
申请号 |
DE200510024911 |
申请日期 |
2005.05.31 |
申请人 |
ADVANCED MICRO DEVICES INC. |
发明人 |
WIRBELEIT, FRANK;BROWN, DAVID;PRESS, PATRICK |
分类号 |
H01L21/336;H01L21/66 |
主分类号 |
H01L21/336 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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