| 发明名称 | 基板处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种基板处理装置。该基板处理装置具有：分度器模块、端部清洗处理模块、反射防止膜用处理模块、抗蚀膜用处理模块、显影处理模块、抗蚀覆盖膜用处理模块、抗蚀覆盖膜除去模块、清洗/干燥处理模块以及接口模块。相邻于基板处理装置的接口模块而配置有曝光装置。在曝光装置中，通过浸液法来进行对基板的曝光处理。在端部清洗模块的端部清洗处理部中，对曝光处理前的基板的端部进行清洗。 | ||
| 申请公布号 | CN1885160A | 申请公布日期 | 2006.12.27 |
| 申请号 | CN200610093230.2 | 申请日期 | 2006.06.23 |
| 申请人 | 大日本网目版制造株式会社 | 发明人 | 茂森和士;金山幸司;春木晶子;宫城聪;金冈雅;安田周一 |
| 分类号 | G03F7/00(2006.01);H01L21/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/00(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 徐恕 |
| 主权项 | 1.一种基板处理装置，相邻于曝光装置而配置，其特征在于，具有：处理部，其用于对基板进行处理；交接部，其相邻于上述处理部的一端部而设置，用于在上述处理部和上述曝光装置之间进行基板的交接，上述处理部包括对由上述曝光装置进行曝光处理前的基板的端部进行清洗的第一处理单元。 | ||
| 地址 | 日本京都府京都市 | ||