| 发明名称 | 钌化合物及其制造方法以及采用该化合物得到的含钌薄膜 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种双(环戊二烯基)钌配位化合物，其中，选自钠、钾、钙、铁、镍、锌的至少1种的含量为5ppm以下。另外，本发明提供一种双(环戊二烯基)钌配位化合物，在双(环戊二烯基)钌配位化合物中含有铼10－100ppm。本发明的双(环戊二烯基)钌配位化合物适合于有机金属化学气相沉积(MOCVD)法，采用该方法能够形成含钌薄膜。 | ||
| 申请公布号 | CN1886412A | 申请公布日期 | 2006.12.27 |
| 申请号 | CN03805580.5 | 申请日期 | 2003.01.08 |
| 申请人 | 三菱麻铁里亚尔株式会社 | 发明人 | 平社英之;石川雅之;柳泽明男;小木胜实 |
| 分类号 | C07F17/02(2006.01);C07F15/00(2006.01);C23C16/18(2006.01) | 主分类号 | C07F17/02(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 郭煜;庞立志 |
| 主权项 | 1.一种钌化合物，其特征在于，是双(环戊二烯基)钌配位化合物构成的钌化合物，其中，上述化合物中所含的钠或钾的任一方或双方的含量为5ppm以下。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||