| 发明名称 | 半透膜及新的含氟聚合物 | ||
| 摘要 | 本发明提供作为半透膜材料等的对短波长光(振荡波长193nm的ArF准分子激光，振荡波长157nm的F<SUB>2</SUB>准分子激光)具有高透明性和耐久性的有用的含氟聚合物。本发明还提供半透膜，该半透膜的被用于半透膜的膜及/或粘合剂的聚合物(I)由以下述单元(1)为必须成分的聚合物形成。单元(1)是含有氟原子、形成聚合物主链的链由碳原子和醚性氧原子构成、形成该主链的碳原子的1个或1个以上是形成环基的碳原子、且形成该主链的1个或1个以上的醚性氧原子为不形成环基的氧原子的单元。例如，上式(A1)表示的单元，式中，n为1或2，R<SUP>F1</SUP>为－F或－CF<SUB>3</SUB>，R<SUP>F2</SUP>为－F或碳原子数1～5的全氟烷基。 | ||
| 申请公布号 | CN1886442A | 申请公布日期 | 2006.12.27 |
| 申请号 | CN200480035239.7 | 申请日期 | 2004.12.02 |
| 申请人 | 旭硝子株式会社 | 发明人 | 松仓郁生;山本弘贤;石桥雄一郎;冈田伸治;代田直子 |
| 分类号 | C08G67/00(2006.01);G03F1/14(2006.01);C09J173/00(2006.01);C09J7/02(2006.01) | 主分类号 | C08G67/00(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 沙永生 |
| 主权项 | 1.半透膜，它是半透膜的膜通过粘合剂与框体粘接而形成的曝光处理用半透膜，其特征在于，被用于半透膜的膜及/或该粘合剂的聚合物(I)由以下述单元(1)为必须成分的聚合物形成，单元(1)是含有与碳原子结合的氟原子的单元，该单元中的形成聚合物主链的链由碳原子和醚性氧原子形成，形成该主链的1个或1个以上的碳原子为形成环基的碳原子，且形成该主链的1个或1个以上的醚性氧原子为不形成环基的氧原子。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||