| 摘要 |
<p>Полезная модель относится к области изготовления полупроводниковых приборов и может быть использована при выращивании тонких пленок методом молекулярно-пучковой эпитаксии.</p>
<p>Держатель подложки для молекулярно-пучковой эпитаксии, включающий цилиндрическую обойму, стопорное кольцо, снабжен средством термоизоляции подложки от обоймы и стопорного кольца, выполненным в виде двух колец из нитрида бора, при этом подложка укреплена между этими кольцами.</p>
<p>В результате уменьшается передача тепла от держателя к подложке и предотвращается, тем самым, неравномерность ее нагрева и обусловленных этим деформаций.</p> |
