| 发明名称 | 光磁记录介质及其制造方法、光磁记录介质用基板、母模及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的光磁记录介质(X1)具有层积结构，该层积结构包括：基板(S1)、具有垂直磁各向异性并承担记录功能的记录层、以及所述基板和所述记录层之间的至少一个功能层(12)。所述基板(S1)和所述至少一个功能层(12)中的至少一个的、所述记录层一侧的表面包括细微凹凸面(10b、10c)，该细微凹凸面(10b、10c)具有0.3～1.5nm的表面粗糙度和1～20nm的凹凸周期。 | ||
| 申请公布号 | CN1886790A | 申请公布日期 | 2006.12.27 |
| 申请号 | CN200380110863.4 | 申请日期 | 2003.12.19 |
| 申请人 | 富士通株式会社 | 发明人 | 山影让;上村拓也;田中努 |
| 分类号 | G11B11/105(2006.01) | 主分类号 | G11B11/105(2006.01) |
| 代理机构 | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 赵淑萍 |
| 主权项 | 1.一种光磁记录介质，具有层积结构，该层积结构包括：基板，具有垂直磁各向异性并承担记录功能的记录层，以及所述基板和所述记录层之间的至少一个功能层，所述基板和所述至少一个功能层中的至少一个的、所述记录层一侧的表面包括细微凹凸面，该细微凹凸面具有0.3～1.5nm的表面粗糙度和1～20nm的凹凸周期。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||