| 发明名称 | 光学存储介质的耐刮涂覆方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种具有涂层的光学数据载体及其生产方法，其中的涂层是通过辐射硬化一种可辐射硬化的涂层剂而得到的。该涂层剂含有至少一种胶体金属氧化物，至少一种烷氧甲硅烷基丙烯酸酯的至少一种水解产物，至少一种丙烯酸酯单体和适当时还有的至少一种UV光引发剂。 | ||
| 申请公布号 | CN1292030C | 申请公布日期 | 2006.12.27 |
| 申请号 | CN02821036.0 | 申请日期 | 2002.10.22 |
| 申请人 | GE拜尔硅股份有限公司;拜尔材料科学股份公司 | 发明人 | H·施泰因贝格;R·维斯佩尔 |
| 分类号 | C09D4/00(2006.01);C08F222/10(2006.01);G11B7/24(2006.01) | 主分类号 | C09D4/00(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王景朝;马崇德 |
| 主权项 | 1.光学数据存储器，其特征在于其上设置有涂层，该涂层通过辐射固化一种可辐射固化的涂层剂而得到，而该涂层剂含有至少一种胶体金属氧化物，至少一种烷氧甲硅烷基丙烯酸酯的至少一种水解产物，至少一种丙烯酸酯单体和任选地含有一种紫外光引发剂。 | ||
| 地址 | 德国莱沃库森 | ||