Positioning apparatus and lithographic apparatus comprising the same,申请号EP20000310369-传众专利搜索

发明名称	Positioning apparatus and lithographic apparatus comprising the same
摘要
申请公布号	EP1107067(B1)	申请公布日期	2006.12.27
申请号	EP20000310369	申请日期	2000.11.22
申请人	ASML NETHERLANDS B.V.	发明人	KWAN, YIMBUN PATRICK;WETZELS, SERGE FELIX CHRETIEN LUCIEN;VELDHUIS, GERJAN PETER
分类号	G03F7/20	主分类号	G03F7/20
代理机构		代理人
主权项
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