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发明名称 PLASMA SOURCE FOR HDP-CVD CHAMBER
摘要
申请公布号 KR100639843(B1) 申请公布日期 2006.12.19
申请号 KR19980003784 申请日期 1998.02.10
申请人 发明人
分类号 H05H1/08 主分类号 H05H1/08
代理机构 代理人
主权项
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