发明名称 光阻涂布方法及其光阻涂布设备
摘要 一种光阻涂布设备,包括一光阻涂布装置、一清洁装置以及一平台。基板置放于平台之上。当涂布光阻时,清洁装置先清除基板表面的微粒,接着,光阻涂布装置将光阻均匀喷洒于基板的表面。
申请公布号 TW200643517 申请公布日期 2006.12.16
申请号 TW094119623 申请日期 2005.06.14
申请人 广辉电子股份有限公司 发明人 苏育;陈世仁;周振南
分类号 G02F1/133(2006.01) 主分类号 G02F1/133(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项
地址 桃园县龟山乡华亚二路189号