发明名称 应变锗场效电晶体及其制造方法
摘要 一种应变锗场效电晶体及其制造方法,系于一基板上形成一锗层,接着于锗层上形成一矽膜保护层,再于矽膜保护层上形成一闸极绝缘层,最后有一闸极位于闸极绝缘层之上;以锗层作为应变锗场效电晶体之载子通道,而提升驱动电流及载子迁移率(mobility),有效增加元件效能,且由于矽膜保护层在锗层上,改善了锗层与闸极绝缘层介面特性。
申请公布号 TW200644074 申请公布日期 2006.12.16
申请号 TW094119896 申请日期 2005.06.15
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 李敏鸿;余承晔;刘致为
分类号 H01L21/02(2006.01) 主分类号 H01L21/02(2006.01)
代理机构 代理人 许世正
主权项
地址 新竹县竹东镇中兴路4段195号