双镶嵌结构、内连结构及其制造方法

摘要

本发明系关于一种内连结构及其制造方法，上述内连结构包括：一基底，其内设置有一导电构件；一复合低介电常数介电层，位于该基底上，其内设置有至少一应力调和层；以及一导电物，位于该复合个介电常数介电层内，通过该应力调和层并电性连结于该导电构件。本发明亦关于一种双镶嵌结构。