发明名称 膜图案之形成方法、膜图案、元件、光电装置及电子机器
摘要 本发明之课题在于提供不残留命中岸堤上之功能液之残渣而确实使该功能液流入图案形成区域,可获得高可靠性之膜图案之膜图案之形成方法、藉此形成方法所得之膜图案、具备此膜图案之元件、光电装置及电子机器。本发明之膜图案之形成方法系将功能液X1配置于基板P上而形成膜图案之方法。首先,在前述基板P上形成对应于膜图案之形成区域34之岸堤B,将功能液X1配置于被岸堤B所划分之图案形成区域34,而硬化处理功能液X1而成为膜图案。此时,在对岸堤B上面之该功能液X1之前进接触角与后退接触角之差为10°以上、且后退接触角为13°以上之条件下,执行功能液X1之配置。
申请公布号 TW200644075 申请公布日期 2006.12.16
申请号 TW095114631 申请日期 2006.04.25
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 平井利充;守屋克之;酒井真理
分类号 H01L21/02(2006.01) 主分类号 H01L21/02(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本