发明名称 | 电浆处理装置 | ||
摘要 | 本发明的课题是在于提供一种电浆处理的面内均一性高,且充电损伤不易产生之电容结合型的电浆处理装置。其解决手段是电容结合型的电浆处理装置100具有:处理室1,其系保持于真空环境;第1及第2电极2,18,其系于处理室1内互相平行配置;及电浆生成机构10,其系于第1及第2电极2,18之间形成高频电场而生成处理气体的电浆;又,第2电极18系其至少与第1电极2的对向部分会被分割成第1分割片18c1及第2分割片18c2,该第1分割片18c1及第2分割片18c2为导体所构成,成浮动状态或被接地,更具有在第1分割片18c1及第2分割片18c2之间施加电压的可变直流电源。 | ||
申请公布号 | TW200644118 | 申请公布日期 | 2006.12.16 |
申请号 | TW095111594 | 申请日期 | 2006.03.31 |
申请人 | 东京威力科创股份有限公司 | 发明人 | 桧森慎司;松土龙夫 |
分类号 | H01L21/3065(2006.01);C23F4/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/3065(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 林志刚 | |
主权项 | |||
地址 | 日本 |