发明名称 电浆处理装置
摘要 本发明的课题是在于提供一种电浆处理的面内均一性高,且充电损伤不易产生之电容结合型的电浆处理装置。其解决手段是电容结合型的电浆处理装置100具有:处理室1,其系保持于真空环境;第1及第2电极2,18,其系于处理室1内互相平行配置;及电浆生成机构10,其系于第1及第2电极2,18之间形成高频电场而生成处理气体的电浆;又,第2电极18系其至少与第1电极2的对向部分会被分割成第1分割片18c1及第2分割片18c2,该第1分割片18c1及第2分割片18c2为导体所构成,成浮动状态或被接地,更具有在第1分割片18c1及第2分割片18c2之间施加电压的可变直流电源。
申请公布号 TW200644118 申请公布日期 2006.12.16
申请号 TW095111594 申请日期 2006.03.31
申请人 东京威力科创股份有限公司 发明人 桧森慎司;松土龙夫
分类号 H01L21/3065(2006.01);C23F4/00(2006.01) 主分类号 H01L21/3065(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本