深锅状铜制溅镀靶及其制造方法

摘要

本发明之深锅状铜制溅镀靶系以模锻制造，该深锅状靶内面之全部部位的维克氏硬度Hv皆为70以上。且其靶组织之平均晶粒粒径为65μm以下。深锅状靶内部之面，具备有以X射线绕射所测得之(220)、(111)、(200)、(311)的结晶配向，而该深锅状靶之溅蚀面的结晶配向系以(220)为主配向。本发明之课题在于提供一种溅镀靶之制造方法，藉由改良、下功夫于锻造制程及热处理制程，可安定制得晶粒粒径微细且均一、特性优异之溅镀靶，并提供利用该方法所制得之品质优异之溅镀靶。