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发明名称
有机被膜之除去方法及微影方法
摘要
本发明之目的系提供一种抑制有机被膜之剥离性之降低,有效除去基体上之有机被膜的方法。本发明有机被膜之除去方法系使附着于基体之有机被膜,与由有机溶剂所成,且经由臭氧处理之再生处理剥离液进行接触后,除去时,使该剥离液中羧酸成份及其酯成份之合计量维持于30质量%以下,同时使有机被膜与剥离液接触。做为剥离液者使用碳酸乙烯酯及碳酸丙烯酯等碳酸伸烷酯。
申请公布号
TW200643657
申请公布日期
2006.12.16
申请号
TW095104739
申请日期
2006.02.13
申请人
东亚合成股份有限公司
发明人
新妻裕志;饭沼知久
分类号
G03F7/42(2006.01);G03F7/36(2006.01);G03F1/14(2006.01)
主分类号
G03F7/42(2006.01)
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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