发明名称 有机被膜之除去方法及微影方法
摘要 本发明之目的系提供一种抑制有机被膜之剥离性之降低,有效除去基体上之有机被膜的方法。本发明有机被膜之除去方法系使附着于基体之有机被膜,与由有机溶剂所成,且经由臭氧处理之再生处理剥离液进行接触后,除去时,使该剥离液中羧酸成份及其酯成份之合计量维持于30质量%以下,同时使有机被膜与剥离液接触。做为剥离液者使用碳酸乙烯酯及碳酸丙烯酯等碳酸伸烷酯。
申请公布号 TW200643657 申请公布日期 2006.12.16
申请号 TW095104739 申请日期 2006.02.13
申请人 东亚合成股份有限公司 发明人 新妻裕志;饭沼知久
分类号 G03F7/42(2006.01);G03F7/36(2006.01);G03F1/14(2006.01) 主分类号 G03F7/42(2006.01)
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本