发明名称 氧化物介电层之形成方法以及具有藉由该形成方法获致之氧化物介电层之电容层形成材料
摘要 本发明之目的在于提供一种氧化物介电层之形成方法,其系使用溶胶–凝胶法形成介电层,该介电层不易受到蚀刻液之损伤,且高电容量等介电特性佳者。为达成该目的,于以溶胶–凝胶法之氧化物介电层之形成方法,采用一种氧化物介电层之形成方法等,其特征在于:包括以下(a)~(c)之步骤。(a)步骤:调制制造所期望的氧化物介电层之溶胶–凝胶溶液之溶液调制步骤。(b)步骤:将上述溶胶–凝胶涂工于金属基材之表面,于含氧气氛中乾燥,于含氧气氛中进行热分解之一连步骤为1单位步骤,反覆复数次该1单位步骤,于1单位步骤与1单位步骤之间任意设550℃~1000℃之惰性气体置换等预备烧处理进行膜厚调整之涂工步骤。(c)步骤:最后进行550℃~1000℃之惰性气体置换等之烧处理使之成介电层之烧步骤。
申请公布号 TW200644003 申请公布日期 2006.12.16
申请号 TW095115244 申请日期 2006.04.28
申请人 三井金属业股份有限公司 发明人 菅野明弘;杉冈晶子;阿部直彦;中岛弘毅
分类号 H01G2/00(2006.01);H05K1/18(2006.01) 主分类号 H01G2/00(2006.01)
代理机构 代理人 洪澄文
主权项
地址 日本