具有多官能活化剂之新颖抛光浆料及无研磨剂之溶液

摘要

本发明系关于一种用于基材之化学机械抛光／平坦化(“CMP”)的水性浆料／溶液组成物。特定言之，本发明之新颖浆料／溶液包括多官能活化剂，其提供该水性抛光浆料／溶液增加的铜去除率，同时还可抑制各向同性化学蚀刻及铜线路之凹陷。