磁记录媒体溅镀用靶材与其制造方法(一) SPUTTERING TARGET OF MAGNETIC RECORDING MEDIUM AND ITS FABRICATION (一)

摘要

本发明系提出一种磁记录媒体(MagneticRecordingMedium)溅镀用靶材与其制造方法，此方法系经由真空感应熔炼(VacuumInductionMelting；VIM)制程，产生合金靶材，系包括钴(Co)、铬(Cr)以及至少一种添加选自镍(Ni)、钽(Ta)、铂(Pt)、钒(V)、钼(Mo)、硼(B)、矽(Si)、锌(Zn)、钛(Ti)、钐(Sm)、铌(Nb)、磷(P)、铑(Rh)、钯(Pd)、钪(Sc)、锆(Zr)、铁(Fe)、铪(Hf)、铼(Re)等不同金属所形成之合金，将VIM熔铸成锭，经由热均压(HeatIsotropicPressure；HIP)制程后，将铸锭简单加工成溅镀用靶材，此制程方法可有效提高靶材致密性，进而延长靶材使用寿命，并降低微偏析及减少微小缩孔。此制程适用于光电产业及半导体产业用制造高品质之靶材，能有效减少微小孔洞，提升靶材溅镀使用率。