METHOD OF MANUFACTURING A THIN LAYER USING ATOMIC LAYER DEPOSITION, AND METHOD OF MANUFACTURING A CAPACITOR AND A GATE STRUCTURE USING THE SAME,申请号KR20050006173-传众专利搜索

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发明名称	METHOD OF MANUFACTURING A THIN LAYER USING ATOMIC LAYER DEPOSITION, AND METHOD OF MANUFACTURING A CAPACITOR AND A GATE STRUCTURE USING THE SAME
摘要
申请公布号	KR100657792(B1)	申请公布日期	2006.12.14
申请号	KR20050006173	申请日期	2005.01.24
申请人		发明人
分类号	H01L21/205;H01L21/336;H01L21/82;H01L21/8242	主分类号	H01L21/205
代理机构		代理人
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