| 发明名称 | 用于透明洁齿产品的沉淀二氧化硅 | ||
| 摘要 | 提供一种研磨性无定形沉淀二氧化硅，其研磨性能很好，且有较高透光率，其折射指数充分低，故能用作水含量较高的透明牙膏组合物的一种组分。此二氧化硅的折射指数小于1.4387，透光率大于48％，Brass Einlehner磨损值大于5mg损失/100,000转。可以用此研磨性无定形二氧化硅制备浊度值小于70的洁齿产品。 | ||
| 申请公布号 | CN1878527A | 申请公布日期 | 2006.12.13 |
| 申请号 | CN200380100065.3 | 申请日期 | 2003.10.28 |
| 申请人 | J·M·休伯有限公司 | 发明人 | K·莱杰夫;S·N·苏尼尔;R·拉马纳什;J·A·科斯汀克 |
| 分类号 | A61K8/25(2006.01);A61Q11/00(2006.01) | 主分类号 | A61K8/25(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 周承泽 |
| 主权项 | 1、一种研磨性沉淀二氧化硅，它具有：小于1.4387的折射指数；大于48％的透光率；大于5mg损失/100,000转的Brass Einlehner磨损值。 | ||
| 地址 | 美国新泽西州 | ||