发明名称 |
基板处理系统及基板处理方法 |
摘要 |
本发明的基板处理系统具备多个模块,所述模块在多个工序范围内,对多个基板进行单张式处理,并且在连续的处理工序中分别进行处理,可容易确定在基板上产生不良部位时成为原因的有问题,在基板的处理张数较多的情况下,可抑制处理量的降低。本发明的基板处理系统具备多个上述模块,并具有:基板运送机构(A4),将基板(W)从运送源的模块运送至运送目的地的模块;控制机构(6),基于规定运送源和运送目的地的模块分配方法的至少两个运送模式的某一种,控制基板运送机构(A4),控制机构(6)在基板的处理工序中,接受运送模式的切换指令后,从执行中的运送模式切换成其他运送模式,基于切换后的运送模式,使基板运送机构(A4)运送基板。 |
申请公布号 |
CN1877451A |
申请公布日期 |
2006.12.13 |
申请号 |
CN200610091623.X |
申请日期 |
2006.06.07 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
林田安;林伸一;原圭孝 |
分类号 |
G03F7/16(2006.01);G03F7/30(2006.01);H01L21/00(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/16(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
张天安 |
主权项 |
1.一种基板处理系统,具备多个模块,所述模块在多个工序范围内,对多个基板进行单张式处理,并且在连续的处理工序中分别进行处理,其特征在于,具有:基板运送机构,将前述基板从运送源的模块运送至运送目的地的模块;控制机构,基于规定运送源和运送目的地的模块分配方法的至少两个运送模式的某一种,控制前述基板运送机构,前述控制机构在前述基板的处理工序中,接受前述运送模式的切换指令后,从执行中的运送模式切换成其他运送模式,基于切换后的运送模式,使前述基板运送机构运送基板。 |
地址 |
日本东京都 |