| 发明名称 | 用于制造溅射靶的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种用于制造溅射靶的方法。所述方法包括步骤：设置一溅射靶载体(12)；将一中间层(14)敷设到所述靶载体上；在所述中间层的上面敷设一个顶层(16)，所述顶层包括一种材料，该材料的熔点显著高于所述中间层的熔点；对外覆有所述中间层和所述顶层的靶载体进行加热。 | ||
| 申请公布号 | CN1289709C | 申请公布日期 | 2006.12.13 |
| 申请号 | CN02815906.3 | 申请日期 | 2002.07.10 |
| 申请人 | 贝卡尔特股份有限公司 | 发明人 | 维尔莫特·德博谢尔;伊尔德·德尔吕;若昂·王德施特雷腾 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01) | 主分类号 | C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王宪模 |
| 主权项 | 1.一种用于制造溅射靶的方法，所述方法包括步骤：-设置一溅射靶载体；-将一中间层敷设到所述靶载体上，该中间层为金属、金属合金或金属氧化物；-在所述中间层的上面敷设一个顶层，所述顶层包括熔点显著高于所述中间层熔点的材料，所述材料为金属、金属合金或金属氧化物；-对覆有所述中间层和所述顶层的靶载体进行加热，加热到低于顶层的熔点的温度。 | ||
| 地址 | 比利时茨维夫格姆 | ||