化学气相沉积设备以及化学气相沉积设备的清洗方法

摘要

本发明的目的是提供一种化学气相沉积设备中的清洗方法，它能够有效地除去副产物如SiO₂或Si₃N₄，所述副产物在成膜步骤中附着并沉积在反应室内壁、电极等的表面上。此外，本发明的目的是提供一种清洗方法，其中排放的清洗气的量非常小，对于环境的影响如全球变暖也下降，以及降低了成本。将能量施加到氟化合物上使氟化合物反应，从而生成氟气和除了氟气之外的组分。此外，生成的氟气和除了氟气之外的组分相互分离，以分离和精炼所述氟气。在使用化学气相沉积设备对基底材料进行成膜处理之后，接着将分离和精炼的氟气转变成等离子体以除去附着杂所述反应室中的副产物。

主权项

1.一种具有清洗机构的化学气相沉积设备，所述化学气相沉积设备用于将反应气体输送到反应室中，然后在反应室中的基底材料的表面土形成沉积薄膜，所述化学气相沉积设备包括氟气生成装置，所述氟气生成装置包括：能量施加装置，它将能量施加给氟化合物使氟化合物发生反应，生成氟气和除了氟气之外的组分；以及氟气浓缩分离精炼装置，它能分离由能量施加装置产生的氟气和除了氟气之外的组分，从而分离精炼出所述氟气，在使用化学气相沉积设备对所述基底材料进行成膜处理后，将由所述氟气生成装置分离精炼的氟气转变成等离子体，用以除去附着在所述反应室中的副产物。