| 发明名称 | 照相铜版移相掩模、及其制造方法和制造装置 | ||
| 摘要 | 在HT的布线图案(1)的透明缺陷的中心部分，形成透射率为0～2％范围内的遮光区域(11)。另外，在从无缺陷时的假想图案的边缘内侧区域到该边缘外侧区域，形成透射率为10～25％范围内的与遮光区域(11)邻接的区域即半透明区域(12)。从而得到在HT掩模的缺陷修补中，能够使缺陷修补部分的加工精度容限增大的光刻掩模。 | ||
| 申请公布号 | CN1289968C | 申请公布日期 | 2006.12.13 |
| 申请号 | CN200410004092.7 | 申请日期 | 2004.02.02 |
| 申请人 | 株式会社瑞萨科技;凸版印刷株式会社 | 发明人 | 永村美一;丹下耕志;林甲季;池田英广 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01);G03F7/00(2006.01) | 主分类号 | G03F7/20(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 杨凯;叶恺东 |
| 主权项 | 1.一种照相铜版移相掩模，其中设有：透明基片(100)；在该透明基片(100)上设置的半透明膜或遮光膜(1)；假设该半透明膜或遮光膜(1)完全良好地形成时的完成图案时，该完成图案中的缺损部分即透明缺陷部分(2)；在该透明缺陷部分(2)内设置的透射率为0％～2％或2％～6％的遮光部分(11)；以及在该遮光部分(11)的周边部分形成的、透射率比所述遮光部分(11)大的半透明部分(12)，从垂直于所述透明基片(100)的主表面的方向看，所述半透明部分(12)从所述完成图案的外周边的内侧区域向外侧区域延伸而形成。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||