发明名称 |
液体浸润式微影制程中具有抗腐蚀层的透镜及其应用 |
摘要 |
本发明揭露一种适用于液体浸润式微影制程的接物透镜以及制造此种接物透镜的方法。在一个实施例中,此接物透镜具有多个透镜组件,其中一个组件包括透明基材与抗腐蚀层。此抗腐蚀层形成且邻接于透明基材之上,并且位于微影制程所使用于的液体与透明基材之间,以保护透明基材免于液体的损害。 |
申请公布号 |
CN1289965C |
申请公布日期 |
2006.12.13 |
申请号 |
CN200410090287.8 |
申请日期 |
2004.11.05 |
申请人 |
台湾积体电路制造股份有限公司 |
发明人 |
林本坚;鲁定中 |
分类号 |
G03F7/00(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/00(2006.01) |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
王燕秋 |
主权项 |
1、一种适用于液体浸润式微影制程中接受一给定波长的光线照射的一透镜,其特征在于,该透镜至少包括:一透明基材;以及一抗腐蚀层,形成并邻接于该透明基材,其中该抗腐蚀层位于该液体浸润式微影制程所使用的液体与该透明基材之间,以保护透明基材免受浸润液体的腐蚀,其中该抗腐蚀层与该液体的化学反应速率每小时小于10-5。 |
地址 |
台湾省新竹科学工业园区新竹市力行六路8号 |