在显示器的生产中清洁遮罩的方法(变体)及实施所述方法的装置

摘要

本发明提供一种清洁遮罩的方法及其实施装置。在本发明方法的第一变体中，其上安置有遮罩的冷却支架安装在真空室中；通过聚焦的带状离子束对朝向离子源的发射表面的接受处理的遮罩表面进行扫描。所选择扫描的切向速度使得在单次离子束通过遮罩表面期间，遮罩表面单元所接收到的能量数额不会超过对应于最大容许过热的热量，氧或其混合物用作形成离子的气体。在所述方法的第二变体中，附加地通过夹紧机构将遮罩压到支架上，以确保冷却支架和不接受处理的遮罩表面之间的热接触。用于实施所述方法的任一变体的装置包括真空室、至少一个安置于真空室中的离子源、遮罩冷却支架。离子源被设计成能够改变离子束与进行处理的遮罩表面之间交会的坐标位置。

主权项

1、一种在显示器的生产中清洁遮罩的方法，所述方法包括通过离子源在真空室中形成离子束以及将遮罩安置在所述室中并使其相对于离子源发射表面，其特征在于，将冷却支架连同所安置的遮罩定位在真空室中，从而能够通过聚焦的带状离子束对面对着离子源的发射表面的、接受处理的遮罩表面进行扫描；以这样的方式选择扫描的切向速度，从而使得在单次离子束通过遮罩表面期间，遮罩表面元件所接收到的能量数额不会超过对应于最大容许过热的热量，并且，其中氧或其混合物被用作形成离子的气体。