发明名称 |
去除化学反应器上的沉积物的方法 |
摘要 |
本发明涉及除去反应装置中形成的沉积物的方法,该沉积物是由于液体反应混合物的固体沉积而形成的,该方法的其特征在于:将反应条件下为惰性的材料颗粒引入反应装置,通过适宜的机械手段使反应混合物流动,从而使该颗粒在整个反应器中移动,以致于在反应过程中,通过冲击内壁或其它内置部件而磨蚀性地去除黏结于其上的沉积物。 |
申请公布号 |
CN1289216C |
申请公布日期 |
2006.12.13 |
申请号 |
CN02814448.1 |
申请日期 |
2002.07.08 |
申请人 |
拜尔公司 |
发明人 |
C·-P·雷辛格;S·M·汗森;P·费舍尔;K·特里贝内克;J·赫尔比格 |
分类号 |
B08B9/08(2006.01);B08B9/057(2006.01);B01J19/00(2006.01) |
主分类号 |
B08B9/08(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
王景朝;杨九昌 |
主权项 |
1.在反应装置中进行化学反应的过程中阻止和/或去除反应沉积物的方法,其特征在于:至少在反应装置空间内,通过移动或搅拌反应混合物而使惰性辅助体在与反应混合物接触的表面上进行磨蚀,用于去除沉积物的颗粒在反应条件下为惰性且在反应压力和温度条件下不会分解,所利用的颗粒在其最长的笛卡儿坐标轴上具有50微米至5cm的尺寸,其中,所述反应沉积物在钯和其它助催化剂存在下利用一氧化碳使羟基芳香类化合物直接羰化成碳酸二芳基酯的过程中形成和/或由均相催化剂中所用的金属形成。 |
地址 |
德国莱沃库森 |