正型光刻胶组合物及使用其形成光刻胶图案的方法

摘要

一种可以在分辨率、LER降低和缺陷水平降低方面得到改进的正型光刻胶组合物及形成光刻胶图案的方法。该组合物和方法提供：一种包含树脂组分(A)的正型光刻胶组合物以及一种使用这种组合物形成光刻胶图案的方法，所述的树脂组分(A)含有由下面所示的通式(1)表示的衍生自(α-甲基)羟基苯乙烯的结构单元(a1)和由下面所示的通式(2)表示的结构单元(a2)，其中组分(A)在2.38重量％的TMAH(氢氧化四甲铵)的水溶液中的溶解速率为100至1000/秒：∴(其中在通式(1)和(2)中，R表示氢原子或甲基)。

主权项

1.一种包含树脂组分(A)、通过曝光生成酸的酸生成剂组分(B)和组分(C)的正型光刻胶组合物，所述的组分(C)含有至少一种可酸解离的、溶解抑制基团，并且组分(C)在由所述组分(B)生成的所述酸的作用下，进行所述溶解抑制基团的解离，由此生成有机羧酸，其中所述的树脂组分(A)含有由下面所示的通式(1)表示的衍生自(α-甲基)羟基苯乙烯的结构单元(a1)和由下面所示的通式(2)表示的结构单元(a2)：其中，R表示氢原子或甲基，其中，R表示氢原子或甲基，所述结构单元(a1)占组分(A)的40至95摩尔％，且所述结构单元(a2)占组分(A)的5至60摩尔％，并且所述组分(A)在2.38重量％的氢氧化四甲铵的水溶液中的溶解速率为100至1000/秒，其中所述组分(C)是一种含有1至6个取代或未取代的苯环和至少一种可酸解离的、溶解抑制基团的化合物，并且是一种由下面所示的通式(i)表示的化合物，其中羟基或羧基中的至少一个的氢原子被可酸解离的、溶解抑制基团所取代：其中R₁至R₄各自独立地表示氢原子，不超过6个碳原子的直链、支化或环烷基，1至5个碳原子的烷氧基，羟基，羧基，或含有羧基的烷基，前提条件是所述基团R₁至R₄中的至少一个表示羟基或羧基，每个X独立地表示单键，-C(O)-或-C(R₅)(R₆)-，R₅表示氢原子或1至5个碳原子的烷基，R₆表示氢原子，1至5个碳原子的烷基，羧基，含有羧基的烷基，或由下面所示的通式(ii)表示的芳基：其中在所述式(ii)中的基团R₁至R₄定义同上，r表示0至2的数，并且q为0或1，但在q为0的情况下，括号内的基团是氢原子。