| 主权项 |
1.一种影像处理方法,适用于一影像锐利度之一调整,该影像处理方法包含:推算出一空间遮蔽程序中至少两邻近点;以及分别以一第一调整値来调昇及调降该两邻近点之一强度値,以加强该影像锐利度,其中该第一调整値与该两邻近点之该强度値间之一亮度边际高度値为一比例値。2.如申请专利范围第1项所述之影像处理方法,其中该比例値可使该第一调整値为该亮度边际高度値十分之一。3.如申请专利范围第1项所述之影像处理方法,其中该亮度边际高度値可介于0到255。4.如申请专利范围第1项所述之影像处理方法,其中当该亮度边际高度値小于一预设第一门槛値时,该空间遮蔽程序中可输出一具零値之该调整値。5.如申请专利范围第1项所述之影像处理方法,其中当该亮度边际高度値小于一预设第一门槛値时,该空间遮蔽程序中可输出一具负値之该调整値。6.如申请专利范围第1项所述之影像处理方法,其中该空间遮蔽程序中更可推算出邻近该两邻近点之其中之一之一第三邻近点,且当该第三邻近点与该两邻近点之其中之一非邻近之该邻近点之该强度値间之一绝对値之一差値大于一预设第二门槛値时,可进行该影像锐利度之该调整。7.一种影像处理方法,适用于一影像锐利度之一调整,该影像处理方法包含:于一二维空间遮蔽程序中,设定一基准画素;提供至少一邻近画素邻近该基准画素;计算该基准画素之一强度値与该邻近画素之一强度値之一绝对値差;依据该绝对値差产生一调整値;以及根据该调整値以调整该邻近画素之该强度値。8.如申请专利范围第7项所述之影像处理方法,其中包含八个邻近画素邻近该基准画素,可分别计算出八个该绝对値差及对应八个该调整値,再分别根据该对应调整値调整该八个邻近画素之该强度値。9.如申请专利范围第8项所述之影像处理方法,其中该基准画素之该强度値可以该八个调整値做一调整,以达到该影像锐利度之该调整。10.如申请专利范围第7项所述之影像处理方法,其中该调整値可近似于该绝对値差之十分之一。11.如申请专利范围第7项所述之影像处理方法,其中该绝对値差可介于0到255。12.如申请专利范围第7项所述之影像处理方法,其中当该绝对値差小于一预设第一门槛値时,该二维空间遮蔽程序中可输出一具零値之该调整値。13.如申请专利范围第7项所述之影像处理方法,其中当该绝对値差小于一预设第一门槛値时,该二维空间遮蔽程序中可输出一具负値之该调整値。14.如申请专利范围第7项所述之影像处理方法,其中当该绝对値差大于一预设第二门槛値时,可进行该影像锐利度之该调整。图式简单说明:第一图系为习知技艺中一维影像中其影像位置及对应亮度値之示意图;第二图系为习知技艺中另一维影像中其影像位置及对应亮度値之示意图;第三图为习知技艺中利用第一图及第二图中之图形相减之结果;第四图系为习知技艺中利用第一图及第三图中之图形之相加之结果;第五图系为习知技艺中所需利用之二维之影像锐利化参数之范例;第六图系为习知技艺中之原始的影像数値;第七图系为习知技艺中第六图经过第五图矩阵计算后之所得之影像增强数値图;第八图系为本发明之实施例中于一维影像中其影像位置及对应强度値之示意图(实线部分)及加强其影像锐利度后其对应亮度値之示意图(虚线部分);第九图系为本发明之实施例中,所利用之一空间遮蔽效应(实线部分)来加强其影像之锐利度(虚线部分)之示意图;第十图系为本发明之实施例中,用以判定杂讯之一示意图;第十一图系为本发明之实施例中,用以判定杂讯之另一示意图;第十二图系为本发明之实施例中,于二维影像中以像素e为锐利化之主要像素为例之示意图;以及第十三图系为本发明之实施例中,用以判断此区域是否尖点杂讯之示意图。 |
