| 主权项 |
1.一种作用槽具有吸附物之超临界分馏装置,系包括有:二氧化碳供应单元,系用以供应二氧化碳;二氧化碳流道,连接上述二氧化碳供应单元,流道上设有加压单元与温控单元,该二氧化碳流道连接至后述作用槽;原料供应单元,供容设添加有溶剂之溶液状原料;原料流道,连接上述原料供应单元,原料流道上设有加压单元,该原料流道连接至后述作用槽;作用槽,该作用槽中包括有吸附物,该吸附物具有大的面积供减缓二氧化碳之流动速度并让分馏物吸附,另作用槽另包括有一分馏物流道与一余流流道。2.如申请专利范围第1项所述之作用槽具有吸附物之超临界分馏装置,其中作用槽中之吸附物,系为复数个独立之物体。3.如申请专利范围第2项所述之作用槽具有吸附物之超临界分馏装置,其中作用槽中之吸附物,系为复数个颗粒状物体。4.如申请专利范围第2项所述之作用槽具有吸附物之超临界分馏装置,其中作用槽中之吸附物,系为复数个条状物体。5.如申请专利范围第2项所述之作用槽具有吸附物之超临界分馏装置,其中作用槽中之吸附物,系为复数个片状物体。6.如申请专利范围第1项所述之作用槽具有吸附物之超临界分馏装置,其中作用槽中之吸附物,系为多孔性之物体。7.如申请专利范围第1项所述之作用槽具有吸附物之超临界分馏装置,其中作用槽中之吸附物,系为具有复数分支之物体。8.如申请专利范围第1项所述之作用槽具有吸附物之超临界分馏装置,其中作用槽中之吸附物,系为连续弯曲之物体。图式简单说明:第一图系本发明之装置示意图。第二图系本发明作用槽之控温构造图。第三图系本发明作用槽之吸附物第二实施例示意图。第四图系本发明作用槽之吸附物第三实施例示意图。第五图系本发明作用槽之吸附物第四实施例示意图。 |
