发明名称 制造具有改良剥离强度的铜箔层之装置及其制造方法
摘要 本发明系揭露一种制造一铜箔基板之装置及方法,其可实质上改良于一热塑性液晶聚合物与一铜箔间之剥离强度。此装置包括:一涂布元件,其系用于在一铜箔之表面薄薄地涂布一热塑性液晶聚合物溶液;一溶剂移除元件,其系用于乾燥此经涂布之热塑性液晶聚合物溶液,以移除此经涂布之聚合物溶液之溶剂;以及一热压元件,其系利用一加热滚轮将一热塑性液晶聚合物薄膜薄片化并热压至该铜箔之上,以制造一铜箔基板。
申请公布号 TWI268209 申请公布日期 2006.12.11
申请号 TW094143146 申请日期 2005.12.07
申请人 三星电机公司 发明人 李尚烨;申畯植;朴亨郁;尹今姫
分类号 B29C43/52(2006.01);B32B37/00(2006.01) 主分类号 B29C43/52(2006.01)
代理机构 代理人 吴冠赐 台北市松山区敦化北路102号9楼;杨庆隆 台北市松山区敦化北路102号9楼;苏建太 台北市松山区敦化北路102号9楼
主权项 1.一种制造铜箔基板之装置,包括: 一涂布(coating)元件,其系用于在一铜箔之表面薄薄 地涂布一热塑性液晶聚合物溶液; 一溶剂移除元件,其系用于乾燥该经涂布之热塑性 液晶聚合物溶液,以移除该经涂布之聚合物溶液中 之溶剂;以及 一热压元件,其系利用一加热滚轮(heating roll)将一 热塑性液晶聚合物薄膜薄片化并热压至该铜箔之 上,以制造一铜箔基板。 2.如申请专利范围第1项所述之装置,其中该涂布元 件包括: 一涂布区域,其系用以施加该热塑性液晶聚合物溶 液至表面粗糙之该铜箔上,以涂布该铜箔;以及 铜箔转移滚轮,其系用以将自一铜箔喂送滚轮中喂 送之铜箔转移至该涂布区域。 3.如申请专利范围第1项所述之装置,其中,该溶剂 移除元件系经由于第一温度下经过一第一预定时 间以预先乾燥(pre-drying),接着于一第二温度下经过 一第二预定时间而完成乾燥,以移除该溶剂。 4.如申请专利范围第3项所述之装置,其中,该第一 温度系为50~1,000℃,该第一预定时间系为30分钟至2 小时,该第二温度系为250~300℃,且该第二预定时间 系为1~4小时。 5.如申请专利范围第1项所述之装置,其中,该热压 元件系经由于一高于该聚合物薄膜之热变形温度( thermal deformation temperature)之温度、一1~5公尺/分钟 之速度、以及一1~10 MPa之压力下进行热压,以制造 该铜箔基板。 6.如申请专利范围第1项所述之装置,其中,于该涂 布元件中所使用之该热塑性液晶聚合物溶液进一 步包括填充物,以减低其热膨胀系数。 7.一种制造铜箔基板之方法,其包括有下列步骤: (1)薄薄地涂布一热塑性液晶聚合物溶液至一表面 粗糙之铜箔上,至一小厚度; (2)乾燥该经涂布之液晶聚合物溶液,以移除该聚合 物溶液中之溶剂;以及 (3)藉由加热滚轮而薄片化并热压一热塑性液晶聚 合物薄膜至该铜箔之上,以制造一铜箔基板。 8.如申请专利范围第7项所述之方法,其中该步骤(1) 包括以下子步骤: (1-1)将从一铜箔喂送滚轮中喂送之铜箔转移至一 涂布区域;以及 (1-2)施加该热塑性液晶聚合物溶液至表面粗糙之 该铜箔之上,以涂布该铜箔。 9.如申请专利范围第7项所述之方法,其中该步骤(2) 包括以下子步骤: (2-1)利用一溶剂移除元件以于一第一温度下经由 一第一预定时间,而预先乾燥该经涂布之聚合物溶 液; (2-2)于一第二温度下经由一第二时间,而完全乾燥 该经涂布之聚合物溶液,以移除该聚合物溶液中之 溶剂。 10.如申请专利范围第7项所述之方法,其中该步骤(3 )中之该热压程序,其实施温度系高于该聚合物薄 膜之热变形温度、其实施速度为1~5公尺/分钟、且 其实施压力为1~10 MPa。 11.如申请专利范围第7项所述之方法,其中该热塑 性液晶聚合物溶液进一步包括填充物,以降低其热 膨胀系数。 图式简单说明: 图1系图解先前技艺中利用滚轮而制造铜箔基板之 方法。 图2A至2B系图解先前技艺中利用碾压法而制造铜箔 基板之方法。 图3系显示本发明一实施例中用以制造一带有较佳 剥离强度之铜箔基板之装置结构图。 图4系本发明一实施例中用以制造一带有较佳剥离 强度之铜箔基板的方法之流程图。
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