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发明名称
Method for forming alumina layer by using MOCVD and method for FeRAM using the same
摘要
申请公布号
KR100655137(B1)
申请公布日期
2006.12.08
申请号
KR20000037425
申请日期
2000.06.30
申请人
发明人
分类号
H01L27/105
主分类号
H01L27/105
代理机构
代理人
主权项
地址
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